高光譜相機是現代光學遙感領域的重要工具，其對于光譜分辨率的提高有著顯著作用。而在高光譜相機使用過程中，光源的選擇扮演著

至關重要的角色。本文將探討如何選擇合適的光源以適應不同的高光譜

相機應用需求。

一、穩(wěn)定性

首先，對于高光譜相機而言，光源的穩(wěn)定性是非常關鍵的。穩(wěn)定的光源可以確保在不同時間和環(huán)境下獲得一致的光照條件，從而減小數

據的變異性。一些傳統(tǒng)光源如烏絲燈、鹵素燈、氙氣燈等雖然也能提供

類似太陽光的光源，對物體進行補光，但它們普遍存在穩(wěn)定性不足的問題，如功耗大、光譜不穩(wěn)定、熱量大、體積大、亮度不均勻等。

LED光源作為一種新型的補光光源，近年來得到了廣泛應用。多芯片合成光源是一種常見的LED光源，能夠提供一個寬光譜光源。然而，

這種光源的光均勻度不夠，芯片供應不足，設備體積大，有些光譜

還缺失。

二、光譜范圍

其次，光源應該能夠涵蓋高光譜相機所需的光譜范圍。不同應用需要不同的光譜范圍，因此光源要能夠提供足夠的波長覆蓋，以滿足不

同成像需求。例如，有些應用可能需要覆蓋可見光和近紅外波段，

而有些應用則可能需要覆蓋更寬的光譜范圍，如400-1700nm或400-2500nm。

對于一些特定的應用，比如對可見度影響較大的大氣污染物質檢測，應選擇能發(fā)出較長波長的LED燈，比如635nm和665nm的LED燈。

而對于一些需要較高光譜分辨率的應用，比如地物分類和識別，

應選擇能發(fā)出較窄帶寬的LED燈，比如615nm和630nm的LED燈。

三、光強度可調性

另外，在一些應用中，可能需要根據不同場景調整光源的光強度。因此，光源應具備可調性，以便根據需要進行精確的光照控制。例如，

有些應用可能需要實時調整光源的亮度以適應不同的觀測條件或

目標反射率。

四、色溫和光譜分布

光源的色溫和光譜分布對于不同物體的成像效果有著重要影響。選擇合適的色溫和光譜分布可以優(yōu)化成像質量，準確捕捉物體的光譜特征

。例如，對于一些需要高對比度的應用，可以選擇色溫較低的

光源以增強物體與背景之間的對比度。而對于一些需要高動態(tài)范圍的應用，可以選擇色溫較高的光源以捕捉更多細節(jié)和顏色信息。

通過高光譜設備獲取到的是一個數據立方，不僅有圖像的信息，并且在光譜維度上進行展開，結果不僅可以獲得圖像上每個點的光譜數據

，還可以獲得任一個譜段的影像信息。

高光譜成像技術是基于非常多窄波段的影像數據技術，它將成像技術與光譜技術相結合，探測目標的二維幾何空間及一維光譜信息，獲取

高光譜分辨率的連續(xù)、窄波段的圖像數據。高光譜成像技術發(fā)展迅速，常見的包括光柵分光、聲光可調諧濾波分光、棱鏡分光、芯片鍍膜等。

如何選擇合適的光源？簡述光源分類與應用

選擇合適的光源，可突顯良好的圖像效果，可以簡化算法，提高檢測精度、提升檢測系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

光源按形狀和用途通常分為以下幾類:

1、環(huán)形光源

環(huán)形光源提供不同照射角度、不同顏色組合，更能突出物體的三維信息；高密度LED傘狀配置，高亮度；多種緊湊設計，節(jié)省安裝空間；解決對角照射陰影問題；紅外，紫外制作，標準24V供電（12V可選），光線均勻擴散。

應用領域:PCB印刷電路板定位與晶片檢查，電子元件檢測、塑膠容器檢查，液晶校正、IC印刷檢查，通用外光檢查等。

2、背光源

用高密度排列的LED陣列實現高輸出背光照明，從被測物背面進行照射，尤其適合作為顯微鏡的載物臺。紅外，紫外制作，可調配出不同顏色，滿足不同被測物多色要求；均勻照射，擴散性好，標準24V供電（12V可選）。

應用領域:外形輪廓尺寸的檢測，電子元件的外觀檢測，異物檢測，液面檢測等。

3、條形光源

條形光源是較大方形結構被測物的首選光源；顏色可根據需求搭配，自由組合；照射角度與安裝隨意可調，使用LED高密度配置和光學透鏡制作；均勻性好，可做背光使用。

應用領域:基板裂紋與金屬表面檢測，電子元件識別檢測，印刷品質量檢測，通用外觀檢查等。

4、同軸光源

同軸光源可以消除物體表面不平整引起的陰影，從而減少干擾；通過使用半透鏡，使LED的擴散照射在相機軸的同軸上，成像清晰，亮度均勻；LED高密度排列，大幅度提升亮度；紅外，紫外制作；標準24V供電（12V可選）。

應用領域:系列光源最適宜用于反射度極高的物體，如金屬、玻璃、膠片、晶片等表面的劃傷檢測，芯片和硅晶片的破損檢測，Mark點定位，印制線路板的圖形檢測，包裝條碼識別等。

5、多射角無影光源

采用功率LED；紅外、紫外制作，標準24V供電（12V可選），均勻照射；　隨工作距離變化，形成不同角度，以滿足不同類型的檢測。

應用領域:PCB印刷電路板定位與晶片檢查；電子元件檢測、塑膠容器檢查；液晶校正、IC印刷檢查；通用外光檢查等。

6.點光源

外觀設計輕巧且重量輕，提高發(fā)光效率，實現高亮度。可配合同軸鏡頭使用。

應用領域:作為遠心鏡頭等的光源；晶片及液晶玻璃檢測；表面裂縫檢測；LCD面板檢測等。

現有的高光譜成像分為有光版本和無光版本：

有光版本一般會用太陽光作為基礎光，太陽光是一個大的寬光譜光源，如下

太陽光譜是一個很寬的光譜，高光譜成像只需要一個攝像頭和相應的配件，就能采集物體的光譜，區(qū)分物體種類，對物體進行分析。

無光版本，基本是夜晚、室內和封閉空間等環(huán)境，需要增加額外的光源進行補光照射，用來采集物體的反射光譜，對物體進行分析。

1、市場上現有的補光光源一般包含烏絲燈、鹵素燈、氙氣燈、氘燈等等傳統(tǒng)光源，舉例如下：

這些光源也能提供類似太陽光的光源，對物體進行補光，但是會有一些缺點。

例如：功耗大、光譜不穩(wěn)定、熱量大、體積大、亮度不均勻等缺點。

2、市場上現有另外一類LED光源，也能提供一些補光，例如多芯片合成光源：如下

這些LED芯片組合成寬光譜光源，能夠提供一個寬光譜光源，但是會出現一些缺點。

例如：光均勻度不夠，芯片供應不足，設備體積大，有些光譜缺失的缺點。

3、現有國紅光電生產的LED產品，能單顆燈珠產生400-1100nm光譜，滿足一部分的高光譜應用場景，如下：

在400-1100nm能完美滿足光譜要求，但是也缺少一部分1100-1700nm，需要另外補一顆燈珠。

1700nm-2500nm光譜還是缺失的，不能生產出來。

高光譜產品是未來的一個長期技術方向，未來將會有很大的可能到民用消費品市場，市值會很大。

綜上所述，高光譜相機光源的選擇需要考慮穩(wěn)定性、光譜范圍、光強度可調性以及色溫和光譜分布等多方面因素。針對不同的應用需求，要選擇合適的光源以適應不同的觀測條件和目標反射率。未來隨著

高光譜技術的發(fā)展，相信會有更多新型的光源出現以滿足不同應用需求。現有的高光譜成像就是在光譜維度上進行了細致的分割，不僅僅是傳統(tǒng)所謂的黑、白或者R、G、B的區(qū)別，而是在光譜維度上也

有N個通道，例如：我們可以把400nm-1000nm分為300個通道。